عرض القائمة
الرئیسیة
البحث المتقدم
قائمة المکتبات
حول الموقع
اتصل بنا
نشأة
ورود / ثبت نام
تعداد ۱ پاسخ غیر تکراری از ۱ پاسخ تکراری در مدت زمان ۰,۳۲ ثانیه یافت شد.
1. Principles of Chemical Vapor Deposition
استناد
اطلاعات استناد دهی
BibTex (مخصوص کاربران)
RIS (مخصوص کاربران)
Endnote (مخصوص کاربران)
Refer (مخصوص کاربران)
Mark (مخصوص کاربران)
المؤلف:
by Daniel M. Dobkin, Michael K. Zuraw.
المکتبة:
کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی
(
قم
)
موضوع:
Chemical engineering.,Machinery.,Nuclear physics.,Surfaces (Physics).
رده :
»
1
«
الاقتراح / اعلان الخلل
×
الاقتراح / اعلان الخلل
×
تحذیر!
دقق في تسجیل المعلومات
اعلان الخلل
اقتراح